Rostislav Daniel

Veröffentlichungen / Abschlussarbeiten

  1. 2006
  2. Veröffentlicht

    Rapid determination of stress factors and absolute residual stresses in thin films

    Martinschitz, K. J., Eiper, E., Massl, S., Köstenbauer, H., Daniel, R., Fontalvo, G., Mitterer, C. & Keckes, J., 2006, in: Journal of applied crystallography. 39, S. 777-783

    Publikationen: Beitrag in FachzeitschriftArtikelForschung(peer-reviewed)

  3. Veröffentlicht

    Thermal stability of magnetron sputtered Zr–Si–N films

    Daniel, R., Musil, J., Zeman, P. & Mitterer, C., 2006, in: Surface & coatings technology. 201, S. 3368-3376

    Publikationen: Beitrag in FachzeitschriftArtikelForschung(peer-reviewed)

  4. 2005
  5. Veröffentlicht

    Beschichtung / Charakterisierung

    Rebelo De Figueiredo, M., Franz, R., Daniel, R., Neidhardt, J. & Mitterer, C., 2005.

    Publikationen: KonferenzbeitragPosterForschung(peer-reviewed)

  6. Veröffentlicht

    Structure and properties of magnetron sputtered Zr-Si-N films with a high (≥25 at.%) Si content

    Musil, J., Daniel, R., Zeman, P. & Takai, O., 2005, in: Thin solid films.

    Publikationen: Beitrag in FachzeitschriftArtikelForschung(peer-reviewed)

  7. 2003
  8. Veröffentlicht

    Structure and mechanical properties of magnetron sputtered Zr-Ti-Cu-N films

    Musil, J. & Daniel, R., 2003, in: Surface & coatings technology.

    Publikationen: Beitrag in FachzeitschriftArtikelForschung(peer-reviewed)

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