Lehrstuhl für Physik (460)
Organisation: Lehrstuhl
Veröffentlichungen / Abschlussarbeiten
- 2010
- Veröffentlicht
Experimental Report BENSC PHY-01-2803
Erko, M., 2010Publikationen: Buch/Bericht › Forschungsbericht › Transfer › (peer-reviewed)
- Veröffentlicht
Experimental Report BESSY 7T-MPW-SAXS
Erko, M., 2010Publikationen: Buch/Bericht › Forschungsbericht › Transfer › (peer-reviewed)
- Veröffentlicht
Exploring fundamental growth morphologies in organic thin film systems
Teichert, C., 2010Publikationen: Buch/Bericht › Forschungsbericht › Transfer › (peer-reviewed)
- Veröffentlicht
Fluid adsorption in ordered mesoporous solids determined by in situ small-angle X-ray scattering
Findenegg, G. H., Jaehnert, S., Mueter, D., Prass, J. & Paris, O., 2010, in: Physical chemistry, chemical physics : PCCP. 12, 26, S. 7211-7220Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
- Veröffentlicht
Gate controlled narrowing of the quantum Hall effect plateau transitions
Oswald, J. & Uiberacker, C., 2010, in: Journal of physics / Conference series. S. 1-4Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
- Veröffentlicht
Gate controlled separation of edge and bulk current transport in the quantum hall effect regime
Oswald, J. & Uiberacker, C., 2010, in: Journal of low temperature physics. S. 180-183Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)
- Veröffentlicht
Gate controlled separation of edge and bulk current transport in the quantum Hall effect regime
Oswald, J. & Uiberacker, C., 2010.Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)
- Veröffentlicht
Gleitstufenuntersuchungen an austenitischen Stahlproben mittels Rasterkraftmikroskopie
Gürkan, N., 2010Publikationen: Thesis / Studienabschlussarbeiten und Habilitationsschriften › Diplomarbeit
- Veröffentlicht
Growth of para-hexaphenyl (6P) on silicon oxide by hot wall epitaxy
Kratzer, M., Shen, Q. & Teichert, C., 2010.Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)
- Veröffentlicht
Growth of para-hexaphenyl (p6P) on SiO2 by hot wall epitaxy
Kratzer, M., Shen, Q. & Teichert, C., 2010.Publikationen: Konferenzbeitrag › Poster › Forschung › (peer-reviewed)