Journal of applied physics, ‎0021-8979

Fachzeitschrift: Zeitschrift

ISSNs0021-8979
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Veröffentlichungen / Abschlussarbeiten

  1. 1997
  2. Veröffentlicht

    A structural and topographical study of low-pressure chemical-vapor-deposited polysilicon by scanning probe microscopy

    Pleschinger, A., Lutz, J. & Kuchar, F., 1997, in: Journal of applied physics. 81, S. 6749-6754

    Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)

  3. 1996
  4. Veröffentlicht

    Grain boundary diffusion through thin films. Application to permeable surfaces

    Preis, W. & Sitte, W., 1996, in: Journal of applied physics. 79, S. 2986-2994

    Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)

  5. 1988
  6. Veröffentlicht

    CONTROL OF CARRIER LIFETIMES IN PBTE DOPING SUPERLATTICES

    Bauer, G., Oswald, J., Goltsos, W. & Nurmikko, AV., 1988, in: Journal of applied physics. 63, S. 2179-2181

    Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)

  7. 1987
  8. Veröffentlicht

    EXPERIMENTAL IDENTIFICATION OF THE ENERGY-LEVEL OF SUBSTITUTIONAL MANGANESE IN SILICON

    Haider, M., Sitter, H., Czaputa, R., Feichtinger, H. & Oswald, J., 1987, in: Journal of applied physics. 62, S. 3785-3790

    Publikationen: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › (peer-reviewed)

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