Microstructure and stress gradients in TiW thin films characterized by 40 nm X-ray diffraction and transmission electron microscopy
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Autoren
Organisationseinheiten
Externe Organisationseinheiten
- Infineon Technologies AG Austria
- European Synchrotron Radiation Facility : ESRF
- Kompetenzzentrum Automobil- und Industrieelektronik GmbH
- Erich Schmid Institute of Materials Science of the Austrian Academy of Sciences
Details
| Originalsprache | Englisch |
|---|---|
| Aufsatznummer | 137576 |
| Fachzeitschrift | Thin solid films |
| Jahrgang | 691 |
| DOIs | |
| Status | Veröffentlicht - 1 Dez. 2019 |
