Effect of growth conditions on interface stability and thermophysical properties of sputtered Cu films on Si with and without WTi barrier layers

Publikationen: Beitrag in FachzeitschriftArtikelForschung(peer-reviewed)

Details

OriginalspracheEnglisch
Seiten (von - bis)022201-1 - 022201-11
Seitenumfang11
FachzeitschriftJournal of vacuum science & technology / B (JVST)
Jahrgang35
DOIs
StatusVeröffentlicht - 2017